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PI Curing設(shè)備變更公告(1)

   日期:2024-04-30     瀏覽:0    

各投標(biāo)人:

現(xiàn)將本項(xiàng)目補(bǔ)遺文件(一)發(fā)布如下:

1、本項(xiàng)目招標(biāo)文件第八章“二、技術(shù)規(guī)格”中“二、設(shè)名稱(chēng)、型號(hào)、規(guī)格及數(shù)量”第“4總體配置:

*  設(shè)備狀態(tài)為全新全自動(dòng)化設(shè)備,適用于200mm notch wafer的batch式爐管

*  設(shè)備自帶SMIF裝置

*  適用于SMIF-RFID式的圓片傳送識(shí)別裝置

*  設(shè)備滿(mǎn)足甲方三相208V/380V或單相100V/120V/220V的供電要求

*  設(shè)備支持標(biāo)準(zhǔn)的SECS/GEM通訊協(xié)議,并支持與MES連接

*  系統(tǒng)要有軟硬盤(pán)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)功能,工作電腦需配備雙硬盤(pán)實(shí)時(shí)備份并提供系統(tǒng)備份”

修改為:

“4.總體配置:

*  設(shè)備狀態(tài)為全新全自動(dòng)化設(shè)備,適用于200mm notch wafer的batch式爐管

*  設(shè)備自帶SMIF/Loadport裝置

*  適用于SMIF-RFID式的圓片傳送識(shí)別裝置

*  設(shè)備滿(mǎn)足甲方三相208V/380V或單相100V/120V/220V的供電要求

*  設(shè)備支持標(biāo)準(zhǔn)的SECS/GEM通訊協(xié)議,并支持與MES連接

*  系統(tǒng)要有軟硬盤(pán)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)功能,工作電腦需配備雙硬盤(pán)實(shí)時(shí)備份并提供系統(tǒng)備份

*  隨設(shè)備配置一套8吋工藝需要的石英及熱電偶

*  隨設(shè)備配置一套設(shè)備保養(yǎng)所需的治具”

2、本項(xiàng)目招標(biāo)文件第八章“二、技術(shù)規(guī)格”中“三、設(shè)備技術(shù)指標(biāo)

PI Curing爐要求能夠達(dá)到如下性能指標(biāo):

1) *適用200mm notch晶圓工藝,可cover晶圓厚度400~2000um

2) *支持wafer翹曲度≤±3mm

3) *溫度控制精度:±1℃(150℃~600℃)

4) *溫度均勻性(wafer to wafer,within wafer) ±1.5℃(150℃~600℃)

5) *Process chamber含氧量控制:≤10ppm

6) *需配備Gas管路: O2,N2

7) *Batch size ≥75片

8) *MTBF大于250小時(shí),uptime ≥90%

9) *Wafer Breakage Rate≤1/10000pcs

10) *Wafer材質(zhì)兼容Si,EMC,bonding等。

11) *顆粒控制<20 @0.5um

12) *Wafer材質(zhì)兼容Si,EMC,bonding等

13) *Boat可旋轉(zhuǎn)

14) *設(shè)備在先進(jìn)封裝領(lǐng)域(WLCSP/Bumping/2.5D/3D封裝)具有量產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),裝機(jī)量≥2臺(tái)

15) 具備快速降溫能力”

修改為:

三、設(shè)備技術(shù)指標(biāo)

PI Curing爐要求能夠達(dá)到如下性能指標(biāo):

1)*適用200mm notch晶圓工藝,可cover晶圓厚度400~2000um

2)*支持wafer翹曲度≤±3mm

3)*溫度控制精度:±1℃(150℃~600℃)

4)*Process chamber含氧量控制:≤10ppm

5)*需配備Gas管路: O2,N2

6)*Batch size ≥75片

7)*MTBF大于250小時(shí),uptime ≥90%

8)*Wafer Breakage Rate≤1/10000pcs

9)  *Wafer材質(zhì)兼容Si,EMC,bonding等。

10)  *顆粒控制<20 @0.5um

11)  *Wafer材質(zhì)兼容Si,EMC,bonding等

12)  *設(shè)備在先進(jìn)封裝領(lǐng)域(WLCSP/Bumping/2.5D/3D封裝)具有量產(chǎn)經(jīng)驗(yàn),裝機(jī)量≥2臺(tái)

13)  具備快速降溫能力

3、投標(biāo)文件的遞交時(shí)間修改為:

投標(biāo)截止時(shí)間(開(kāi)標(biāo)時(shí)間):2024年 5 月 16 日14:00 分,投標(biāo)文件遞交時(shí)間:2024年 5月  16 日13 :30分-2024年 5 月 16 日14 :00 分。

已發(fā)出的招標(biāo)文件與本補(bǔ)遺文件(一)有沖突的地方,以本補(bǔ)遺文件(一)為準(zhǔn)。

招標(biāo)人:聯(lián)合微電子中心有限責(zé)任公司

招標(biāo)代理機(jī)構(gòu):中國(guó)遠(yuǎn)東國(guó)際招標(biāo)有限公司

聯(lián)系人:王靜

電話(huà): 18680888091

2024年4月30日

編輯:chinabidding.mofcom.gov

特別提示:本信息由相關(guān)企業(yè)自行提供,真實(shí)性未證實(shí),僅供參考。請(qǐng)謹(jǐn)慎采用,風(fēng)險(xiǎn)自負(fù)。


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